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隨著半導體製程技術不斷推進，10奈米以下及

3D立體結構製程的製程技術及良率控制難度提高，需高密度、高解析度的量測技術，測量及控制半導體元件效能。

（中央社記者張建中台北16日電）荷商艾司摩爾(ASML)將斥資新台幣1000億元收購漢微科，ASML認為，雙方量測技術將具互補效益，兩公司結合，將有利協助客戶強化製程控制並提高良率。

此外，漢微科在電子

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束檢測極紫光外光(EUV)應用於辨識光罩缺陷領域也具領導地位，未來也將有助提升ASML極紫光外微影系統平台效能。1050616

漢微科宣布，與ASML簽署股份轉換契約，ASML將以每股1410元收購漢微科全部

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流通在外股份，交易總金額達1000億元，這宗交易案預計今年第4季完成。

立體半導體製程也需要高

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密度、高電壓反差的量測，控制立體結構產品性能。

漢微科多年專注高解析度及電壓反差成像電子束產品及應用開發，位居電子束檢測設備龍頭，核心技術將可增加ASML包括微影曝光系統、運算微影及量測等全方位微影技術解決方案。

漢微科電子束量測技術可針對2D及3D圖案進行

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清楚的成像，ASML可藉此成像強化設計及製程模擬模型，有助ASML曝光機調整至最適狀態。

ASML在與漢微科聯合新聞稿中指出，收購漢微科是為使先進技術與設備更加精進，透過雙方量測技術互補，將能協助客戶強化製程控制並提高良率。